英伟达携手高意扩建得州工厂，磷化铟光互连技术助力AI算力提升

英伟达与高意共建得州新厂

6月17日，英伟达宣布其战略投资的高意（Coherent）在美国得州Sherman扩建工厂，奠基仪式已成功举行。该工厂将专注于6英寸磷化铟晶圆与光互连产能，旨在满足AI数据在机架间以光速传输的需求。

技术优势与未来展望

磷化铟作为一种复合半导体材料，在发光和调制光信号方面表现出色，是制造高速激光器、收发器和光互连器件的关键材料。它将为未来连接AI系统芯片、服务器和数据中心提供重要支撑。

光通信的重要性

英伟达创始人兼CEO黄仁勋强调，光通信在当前算力规模下至关重要。以NVIDIA Vera Rubin Ultra NVL576为例，该系统需要将多个GPU连接成单一系统协同工作，传统铜缆已无法满足需求。光通信在长距离传输中具有更高的能效优势。

项目资金与就业机会

Coherent已获得5000万美元的CHIPS Act拨款，以及得州CHIPS计划和Sherman经济发展公司约1700万美元的支持。新工厂预计将创造550余个就业岗位，并带动数千个直接与间接就业机会。